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基于橢偏角成像的識(shí)別偽裝目標(biāo)方法
關(guān)鍵詞：目標(biāo)識(shí)別 橢偏角 復(fù)折射率 入射角
摘要：偏振度的測(cè)量對(duì)反射輻射強(qiáng)度有一定的要求,反射輻射強(qiáng)度較低時(shí),不同材料之間偏振度差別不明顯,且線(xiàn)偏振度受探測(cè)角和表面粗糙度影響較大,以相同探測(cè)角探測(cè)粗糙度類(lèi)似的目標(biāo)時(shí)難以對(duì)目標(biāo)從偏振度上區(qū)分。通過(guò)分析影響電磁波在物質(zhì)表面反射輻射的振幅與相位因素,研究了其偏振特性,提出在線(xiàn)偏振光入射條件下,通過(guò)對(duì)反射輻射橢偏角成像,直接或間接輔助識(shí)別偽裝目標(biāo)的方法。建立橢偏角與復(fù)折射率、入射角之間的函數(shù)模型,并通過(guò)軟件仿真驗(yàn)證模型的正確性。文章為基于探測(cè)偏振信息進(jìn)行偽裝識(shí)別的方法提供一種新思路。
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