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藍寶石磁流變化學機械拋光工藝研究
陽志強; 李宏; 郭忠達 西安工業(yè)大學光電工程學院; 西安710021
關(guān)鍵詞：流變拋光 藍寶石 化學機械拋光 表面粗糙度 去除率
摘要：針對超光滑平面藍寶石襯底片存在亞表層損傷的問題,文中利用磁流變拋光技術(shù)進行藍寶石襯底片拋光以滿足現(xiàn)有生產(chǎn)需要,研究了磁流變拋光中拋光壓力、拋光盤轉(zhuǎn)速、工件盤轉(zhuǎn)速及拋光液溫度等工藝參數(shù)對C向藍寶石襯底片表面粗糙度和去除率的影響。采用正交實驗方法獲得了一組最佳工藝參數(shù)為:拋光壓力為25kg,拋光盤轉(zhuǎn)速為40r·min^-1,工件盤轉(zhuǎn)速為20r·min^-1,拋光液溫度為38℃。研究結(jié)果表明:藍寶石拋光后最優(yōu)表面粗糙度Ra為0.31nm,去除率達到2.68μm·h^-1。
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