久热精品在线视频,思思96精品国产,午夜国产人人精品一区,亚洲成在线a

關(guān)鍵詞：半導體分立器件 集成電路制造 光刻膠 光致抗蝕劑 光刻技術(shù) 

摘要：光刻膠又名“光致抗蝕劑”,是一種在紫外光等光照或輻射下,其溶解度會發(fā)生變化的薄膜材料。光刻膠的配方較為復雜,通常由增感劑、溶劑、感光樹脂以及多種添加劑成分構(gòu)成[1],是集成電路制造的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料之一,是光刻技術(shù)中涉及到最關(guān)鍵的功能性化學材料[2],廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及半導體分立器件的微細加工等過程[3]。光刻膠分為光聚合型、光分解型、光交聯(lián)型、含硅光刻膠等種類。光刻膠的主要參數(shù)有分辨率、對比度、靈敏度、粘滯性黏度、抗蝕性、表面張力和粘附性。

新材料產(chǎn)業(yè)雜志要求:

{1}稿件應為未公開發(fā)表的作品，凡來稿，均視為作者、譯者已經(jīng)閱讀或知悉并同意本聲明。

{2}編輯部有權(quán)對來稿進行修改或刪節(jié)，但對內(nèi)容的實質(zhì)性修改將征得作者同意。

{3}論文所引文獻的注釋必須規(guī)范，準確標明作者、文獻名稱、出版社或出版物的名稱、出版或發(fā)表的時間、頁碼等。注釋一律采用腳注方式，注釋序號使用1、2、3……標示，每頁單獨排序。

{4}引用大型常用出土文獻合集，可使用括注，括注應使用不同于正文的字體。第一次應使用全稱，第二次可使用簡稱。

{5}獲得各項課題資助的來稿將優(yōu)先發(fā)表（需要在稿件首頁注明）。

注：因版權(quán)方要求，不能公開全文，如需全文，請咨詢雜志社